Субстрат Photocentric A4++ для полимерных клише
| Производитель: | Photocentric |
| Модель: | Substrate A4++ |
| Наличие: | В наличии |
| Артикул: | RE00031 |
-
110 руб.
Жесткая пленочная основа, используемая в основании клише печати при её изготовлении по фотополимерной технологии для увеличения механической прочности. Одна из сторон пленки матовая для улучшения сцепления фотополимера и субстрата.
Формат листа — А4++ (250×350 мм)
| Фотополимер | |
| Размер листа | 250×350 мм |
| Толщина листа | 0,125 мм |
Требуется обработка?
У "Лазер-Графикса" есть собственное производствоДоставка?
Доставка нашим курьером в пределах МКАДЕсть и другие способы доставки